PlasmaPro 800 RIE 参考价：面议
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的...
PlasmaPro 80 RIE 参考价：面议
PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实...
PlasmaPro 100 RIE 参考价：面议
PlasmaPro 100 RIE模式可为多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺。询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品
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